定義
- 光過敏性藥物／化學物質誘發之光敏感 (photoallergic drug/chemical-induced photosensitivity)，ICD-10：L56.1。
- 源自光過敏原 (photoallergen) 與 UVA 輻射 (UVA radiation) 的交互作用。
- 已致敏 (sensitized) 個體暴露於光過敏原與陽光下，出現侷限於曝光部位、臨床上與過敏性接觸性皮膚炎 (allergic contact dermatitis) 無法區分的搔癢性濕疹樣疹。
- 多數為外用塗抹誘發，但全身性誘發 (systemic elicitation) 亦可發生。
流行病學
- 較常見於成人；所有膚色皆可發生。
- 光過敏性藥物反應的發生頻率遠低於光毒性藥物反應 (phototoxic drug reactions)。
致病機轉 (Pathogenesis)
- 外用化學物質／藥物 + UVA；常見來源為消毒劑、抗菌劑、防曬乳成分、鬍後水香精、美白劑（表 10-5）。
- 皮膚中的化學製劑吸收光子形成光產物 (photoproduct) → 與可溶性或膜結合蛋白結合成抗原 → 引發第四型免疫反應 (type IV immune response)。
- 僅在曾致敏者身上被誘發；可由全身給藥致敏、外用引發，反之亦然。UVA 始終為必要條件。
表 10-5：外用光過敏原 (Topical Photoallergens)
臨床表現
- 高度搔癢。急性反應型態與過敏性接觸性皮膚炎無法區分：丘疹狀、水疱狀、脫屑、結痂；偶見類似扁平苔癬 (lichen planus) 的苔癬樣疹。
- 慢性藥物光過敏：脫屑、苔癬化 (lichenification) 與顯著搔癢，類似異位性皮膚炎或慢性過敏性接觸性皮膚炎。
- 分布:主要侷限曝光部位,可蔓延至鄰近非曝光皮膚。臉部上眼瞼、鼻下方、下唇與下巴間一細條皮膚常被倖免（具診斷價值）。
圖 10-7:光過敏性藥物誘發之光敏感;臉部濕疹樣皮膚炎,服用 trimethoprim–sulfamethoxazole,眼瞼/鼻下/下唇下方相對倖免。
診斷
- 依藥物暴露病史、過敏性接觸性皮膚炎型態之皮疹、侷限於陽光曝曬部位。
- 皮膚病理:表皮海綿狀水腫 (epidermal spongiosis) 伴淋巴球浸潤。
- 光貼布試驗 (photopatch test) 驗證:光過敏原以雙份塗抹覆蓋,24 小時後一組照射 UVA、另一組維持覆蓋,48–96 小時後判讀;照射部位出現濕疹樣反應而未照射部位無反應即確認。
病程與預後 (Course / Prognosis)
- 光過敏性皮膚炎可持續數月至數年,即慢性光化性皮膚炎 (chronic actinic dermatitis,舊稱持續性光反應)。
- 作用光譜 (action spectrum) 通常擴大至涉及 UVB;即使停用致病光過敏原仍持續,每次新紫外線暴露皆惡化。
- 最終形成慢性濕疹樣、苔癬化、極度搔癢的融合性斑塊,導致毀容。
- 此時已不依賴原始光過敏原,故避開光過敏原無法治癒。
治療 (Treatment)
- 急性水疱期可用濕敷 (wet dressings);外用糖皮質類固醇 (topical glucocorticoids)。
- 外用皮質類固醇、口服抗組織胺 (oral antihistamines);嚴重病例可能需口服類固醇 (oral steroids)。